BASF bietet honorarfreies Fotomaterial für Journalisten in der Bilddatenbank der Deutschen Presse-Agentur (dpa)
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Technische Details
Dateiname:
24_02_4005.jpg
Dateigröße:
3,1 MB (Hires)
Bildgröße:
3197x2126 (Hires)
Veröffentlicht:
24.02.2009, 14:30 Uhr
Erstellt am:
24.02.2009
Bildinformationen
Firma:
BASF SE (Pressemappe)
Meldungstitel:
BASF bietet honorarfreies Fotomaterial für Journalisten in der Bilddatenbank der Deutschen Presse-Agentur (dpa)
Bildüberschrift:
Chipherstellung erfordert Chemikalien von höchster Reinheit / Chip production requires ultra-clean chemicals
Bildrechte:
BASF SE
Fotograf:
BASF SE
Objektbeschreibung:
Chemotechnikerin Anja Wagner untersucht die Oberfläche eines Halbleiterwafers auf Verunreinigungen. Ein Wafer ist ein Siliziumsubstrat, auf dem Mikrochips hergestellt werden. Bei dem vielstufigen Prozess der Herstellung von Mikrochips ist höchste Reinheit von entscheidender Bedeutung. Um die Wirkungsweise der mikroelektronischen Strukturen sicherzustellen, müssen während der Verarbeitung regelmäßig Partikel und ionische Verunreinigungen von der Oberfläche des Wafers entfernt werden. In Reinraumlabors entwickeln Forscher hierfür hochreine Prozesschemikalien. Ziel ist es, Kunden bei der Weiterentwicklung der Halbleitertechnologie zu unterstützen zum Beispiel bei der fortlaufenden Miniaturisierung der Strukturen oder der Erhöhung der Speicherkapazität der Chips. Abdruck honorarfrei. Copyright by BASF. Laboratory technician Anja Wagner examines the surface of a semiconductor wafer for impurities. A wafer is a silicon substrate on which microchips are produced. Ultra cleanliness is crucial in the multi-stage microchip production process. To guarantee the effectiveness of the microelectronic structures, particles and ionic impurities must be removed from the waferís surface at regular intervals during processing. Researchers develop ultra-clean process chemicals in the cleanroom laboratory for this purpose. The aim is to help customers to enhance semiconductor technology for example, for the ongoing miniaturization of structures or for increasing chip storage capacity. Print free of charge. Copyright by BASF.
Die Verwendung dieses Bildes ist für redaktionelle Zwecke honorarfrei. Abdruck bitte unter Quellenangabe: "obs/BASF SE"
Aufnahmeort:
Ludwigshafen
Aufnahmeprovinz:
Rheinland-Pfalz
Aufnahmeland:
Deutschland
Schlagwörter:
Chemie / Industrie / Wafer /
Kategorie:
WI